Den laserfjerning er en teknikk som brukes for fremstilling av nanopartikler , visse fremgangsmåter for analyse av materialer og / eller for fremstilling av en avsetning tynt atomlag .
Den laserablasjon sin helhet her den rekke metoder for fysisk avsetning av tynne sjikt , slik at fordampning , den påspruting eller sol-gel-metoden .
En pulserende laserstråle er fokusert på et mål laget av materialet som skal deponeres. Mål-bjelke-interaksjonen fører til at materialet som utgjør målet blir revet av, ved sputtering, fordampning eller til og med mekanisk brudd. Dette materialet kan deretter avsettes på et substrat plassert overfor laserpunktet.
Interaksjonsbetingelsene, fluens (pulsens energi per arealeenhet), pulsvarighet, bølgelengde , gjør det mulig å kontrollere ablasjonsveien til materialet (plasma, damp, etc.) ved å endre betingelsene for absorpsjon av laserenergi av mål.
Ablasjonen kan finne sted under ultrahøyt vakuum eller i en kontrollert atmosfære eller i en løsning, som tillater presis kontroll av støkiometrien til avsetningen.
Det er få teoretiske grenser for substratene som kan brukes med tanke på energien til den ablaterte kjemiske arten og avsetningsforholdene.